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膜厚儀

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設備名稱 膜厚儀   品牌型號ST2000-DLXn

設備用途
測量氧化硅、氮化硅等材料的薄膜厚度

主要技術指標：
測量尺寸：≤ 4inch
測量范圍： 20nm -5000nm

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備案號：魯ICP備2021018823號

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